Подписаться
Louis Rassinfosse
Louis Rassinfosse
Подтвержден адрес электронной почты в домене student.unamur.be
Название
Процитировано
Процитировано
Год
Using ammonia for reactive magnetron sputtering, a possible alternative to HiPIMS?
L Rassinfosse, JL Colaux, D Pilloud, A Nomine, N Tumanov, S Lucas, ...
Applied Surface Science 502, 144176, 2020
72020
When magnetron sputtering deposition meets machine learning: Application to process anomaly detection
V Delchevalerie, N de Moor, L Rassinfosse, E Haye, B Frenay, S Lucas
Surface and Coatings Technology 477, 130301, 2024
2024
В данный момент система не может выполнить эту операцию. Повторите попытку позднее.
Статьи 1–2